キーサイトのノイズ・アナライザ、サムスンファウンドリーが採用

測定データにより、高度な半導体ノードにおけるPDK開発のPathWave Device Modelingとシミュレーション精度が向上

キーサイト・テクノロジーズ・インク（米国カリフォルニア州サンタローザ、日本法人：キーサイト・テクノロジー株式会社、以下「キーサイト」）は、Samsung Foundry（以下、サムスンファウンドリー）が半導体デバイスで1/fノイズ（フリッカーノイズ）とランダム・テレグラフ・ノイズ（RTN）の測定と解析にキーサイトのE4727B高性能低周波ノイズ・アナライザ（A-LFNA）を採用したことを発表しました。シリコンメーカーの最先端技術を対象にしているサムスンファウンドリーのお客様は、A-LFNAデータに基づく最も正確なシミュレーションモデルなどのプロセス・デザイン・キット（PDK）を利用して、RF回路とアナログ回路の設計と検証ができます。
　　　　　　　
キーサイトのPathWaveソフトウェアソリューション製品管理ディレクターであるCharles Plottは次のように述べています。
「PDKの開発、特に5、4、3ナノメートルの先端技術ノードにおいて、正確な低周波ノイズ測定とモデリングの重要性が増しています。サムスンファウンドリーが当社のA-LFNAを使用することで、設計エンジニアは回路設計用の最高品質のPDKを用いて、ファーストパスで成功を収め、市場投入までの時間を短縮することができます。」
　　　　　　　　
Keysight E4727B A-LFNAは、半導体デバイスの低周波ノイズを測定するターンキーソリューションです。PathWave A-LFNA測定／プログラミングソフトウェアは、PathWave WaferPro（WaferPro Express）測定プラットフォーム上に構築しています。エンジニアは柔軟性と拡張性に優れた測定システムで、完全なウエハーレベルのデバイスの特性評価ワークフローを管理／自動化できます。次に、システムから測定データをキーサイトのPathWave Device Modeling（IC-CAP）とPathWave Model Builder（MBP）ソフトウェアにインポートし、PDK開発用のデバイスモデルを抽出します。これにより、高精度なRFおよびアナログ低ノイズ回路の設計とシミュレーションを実現します。
　　　　　　　
サムスンファウンドリーは、最先端のプロセス技術、検証済みIP、デザイン・サービス・ソリューションなど、最適化されたファウンドリーソリューションを提供する大手半導体ファウンドリーです。
　　　　　　　
サムスンファウンドリー技術担当副社長のHyung Jin Lee氏は、次のように述べています。
「当社は、慎重に技術評価を行った結果、デバイス測定の品質、効率、拡張性を向上させるためにキーサイトのE4727B A-LFNAを選択しました。キーサイトのA-LFNAは100 MHzの広い周波数帯域幅を持ち、より高周波でのノイズ測定を可能にします。また、A-LFNAの測定速度は従来のシステムと比較すると非常に高速です。オンウエハーデバイスの迅速な自動化測定がなければ、特性評価プロセスは消耗的な作業になるでしょう。A-LFNAの非常に正確で高速な測定によって、当社のPDKがいち早く市場投入され、お客様のデザインサイクルを加速することができます。」
　　　　　　　　
キーサイト・テクノロジー
www.keysight.co.jp