2017年4月11日 プレスリリース

2016年の半導体フォトマスク販売額は33億ドル、SEMIが発表

SEMI(本部:米国カリフォルニア州ミルピタス)は4月10日(米国時間)、2016年の半導体フォトマスクの世界市場が33億2千万ドルとなり、2018年には35億7千万ドルに達することが予測されると発表しました。
フォトマスク市場は2015年に1%、2016年に2%の成長を遂げ、2017年には4%、2018年には3%の成長がそれぞれ見込まれます。フォトマスク市場をけん引しているのは、45nm未満の微細プロセスであり、地域的には半導体の製造が拡大するアジア太平洋地域です。台湾が6年連続で最大市場となり、今回の予測の範囲においても最大市場となることが予測されます。


33億2千万ドルのフォトマスク販売額は、ウェーハプロセス材料市場の13%を占め、シリコンウェーハとガスに次ぐ大きさとなります。過去との比較では、2003年のウェーハプロセス材料市場に占めるフォトマスクの比率は18%でした。
もうひとつの注目されるトレンドは、内製マスクショップの重要性が高まっていることです。2011年から2012年にかけての集中的な設備投資で弾みをつけ、その後も内製マスクショップは外販マスクサプライヤに対して市場シェアを拡大しました。全フォトマスク市場において2015年の56%から昨年は63%を占めるに至りました。2003年のフォトマスク市場に占める内製マスクショップの比率は31%でした。


このほど発行された2016年版フォトマスクレポートは、2016年のフォトマスク市場のデータを、北米、日本、欧州、台湾、韓国、中国、その他地域に分類して提供します。レポートには2003年以降の実績と2018年までの予測データが、各地域について収録されており、これまでのリソグラフィ開発の概要も記載されています。

 

2016年版フォトマスクレポート
http://www.semi.org/jp/node/16561

 

リリース詳細は発表企業のホームページへ

http://www.semi.org/jp/node/75106

 

■SEMI
http://www.semi.org

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